氣態(tài)化學污染物危害性以及解決方案

更新時間：2025-08-05

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　　1、半導體行業(yè)0.25微米生產(chǎn)工藝中氣態(tài)化學污染物的濃度必須控制<5ppt,如果氣態(tài)污染物濃度>5ppt導致半導體層間結合失效;導致HEPA過濾器降解，比如濾料釋放出硼;導致兩道制程之間的結合界面高電阻;導致晶元或者光學透鏡表面沉積霧狀。

　　2、依據(jù)行業(yè)環(huán)境控制流程可以在新風系統(tǒng)、空氣循環(huán)系統(tǒng)、末端FFU或者局部自動化設備上的EFU配置化學過濾器。

　　3、優(yōu)佳的氣態(tài)污染物解決方案可以起到如下作用:

　　延長維護周期;增強產(chǎn)品的可靠性和壽命;強化制程控制、增強產(chǎn)品優(yōu)良率;提高電子和機械的性能;優(yōu)化生產(chǎn)控制。

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